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Galvanotecnica
Elettroliti per trattamenti galvanotecnici
I nostri clienti in Germania e all'estero apprezzano le eccezionali prestazioni dei nostri bagni galvanici, ideali per garantire ottimali deposizioni metalliche anche in condizioni difficili. Gli elettroliti sono adatti sia per bagni a telaio sia per la galvanizzazione in sistemi a buratto.
Elettrolita cianidrico di rame. Genera elettrodepositi densi, aderenti e finemente cristallini anche in caso di strati di ridotto spessore. Utlizzabile per processi a Telaio o rotobarile.
Bagno di rame lucido. Sistema a base di acido solforico. Contiene coloranti. Genera elettrodepositi duttili, superlucidi e livellanti in impianti con telai o con buratti.
| Articolo | Descrizione |
|---|---|
| RUBIN F 2000 | Sistema bicomponente con colorante + soluzione di make-up |
| RUBIN F 1000 | Sistema monocomponente con colorante + soluzione di make-up |
| RUBIN T 200 | Sistema senza colorante e senza metanolo |
Elettrolita di nichel semilucido, esente da zolfo. Grazie all’elevata differenza di potenziale rispetto agli strati di nichel lucido successivamente depositati si ottengono sistemi di rivestimento resistenti alla corrosione.
Elettroliti di nichel lucido. Per elettrodepositi duttili, superlucidi e perfettamente livellati realizzabili con un’ampia gamma di densità di corrente da lucidatura.
| Articolo | Descrizione |
|---|---|
| ORION 3000+ | Per merci su telai con buon potere di livellamento |
| ORION 4000 | Per merci su telai con elevato potere di livellamento |
| SIRIUS | Per merci su telai con buon potere di livellamento |
| POLARIS GT 10 | Per nichelature in buratti |
| POLARIS GT 24 | Per nichelature in buratti |
Elettroliti per rivestimenti di nichel ad effetto perlescente.
| Articolo | Descrizione |
|---|---|
| MERKUR C | Deposizione dal sistema dispersivo con tenori di metallo superiori 105 g/l di nichel |
| MERKUR D | Deposizione dal sistema dispersivo con tenori di metallo superiori 105 g/l di nichel |
| MERKUR E | Deposizione dal sistema finemente dispersivo con un basso tenore di metalli |
| MERKUR G | Deposizione dal sistema dispersivo con un basso contenuto di metalli |
| MERKUR H | Deposizione dal sistema dispersivo con tenori di metallo superiori 105 g/l di nichel |
| MERKUR I | Deposizione dal sistema dispersivo con tenori di metallo superiori 105 g/l di nichel |
| MERKUR K | Deposizione da un'emulsione in combinazione con un’unità di riscaldamento-raffreddamento |
| MERKUR L | Deposizione dal sistema dispersivo con tenori di metallo superiori 105 g/l di nichel |
Processo per cromatura trivalente ed esavalente con eccellente potere penetrante. Può essere utilizzato in tutti gli usuali impianti.
Elettroliti di cromo lucido e cromo nero
| Articolo | Descrizione |
|---|---|
| SAPHIR 14 | Cromo esavalente |
| SAPHIR 17 | Cromo esavalente |
| SAPHIR 1038 | Sistema trivalente a base di cloruri |
| SAPHIR 2000 | Sistema trivalente a base di solfati |
Elettroliti di cromo nero
| Articolo | Descrizione |
|---|---|
| SAPHIR TS | Ottimo potere coprente e brevi tempi di esposizione |
Pretrattamento della plastica.
Sistema colloidale
| Articolo | Descrizione |
|---|---|
| SURFAPLATE ET–KS | Mordensatura a base di acido cromico / acido solforico |
| SURFAPLATE Reductor | Riduzione del cromo esavalente |
| SURFAPLATE Activator–KS | Attivatore a base di palladio per sistema colloidale |
| SURFAPLATE Accelerator–KS | Accelerante per la rimozione dello stagno colloidale, aspra |
| SURFAPLATE Accelerator–ALC | Accelerante per la rimozione dello stagno colloidale, alcalina |
| SURFAPLATE EN 1000 | Processo di nichel chimico, esente da ammonio |
| SURFAPLATE EN 2000 | Processo di nichel chimico, contenente ammonio |
Sistema metallizzazione diretta
| Articolo | Descrizione |
|---|---|
| SURFAPLATE ET | Mordensatura a base di acido cromico/solforico per la metallizzazione diretta |
| SURFAPLATE Reductor | Riduzione del cromo esavalente |
| SURFAPLATE Activator | Attivatore a base di palladio, altamente attivo, per la metallizzazione diretta |
| SURFAPLATE Selector | Forma la matrice elettricamente conduttiva sulla quale può essere eseguita direttamente la ramatura acida |
Processo di zincatura alcalina esente da cianuri. Ottimo potere diffondente. Elettrodepositi duttili ed esenti da tensioni; eccellente distribuzione dello strato. In combinazione con il nostro additivo TOPAS 3100 Fe può essere utilizzato anche come elettrolita di zinco-ferro.
Elettrolita per zincatura acida lucida. Elettrodepositi superlucidi e duttili anche con elevate densità di corrente; disponibile anche in versione esente da acido borico.
Processo alcalino per zinco-/nichelatura
| Articolo | Descrizione |
|---|---|
| OPAL 5000 | Processo alcalino per zinco nichel. Elettrodepositi lucidi per processi a Telaio o rotobarile; ottimo potere penetrante e di distribuzione dei metalli; impiego semplice e affidabile |
| OPAL 7000 | Processo alcalino zinco nichel. Sviluppo speciale per l'applicazione telaio, L`elevatissima resistenza all’accensione consente una produzione con elevate densità di corrente. Duttili strati di zinco / nichel per la successiva deformazione; Livelli lucido tecnico a regolazione altamente lucido |
Processo acido per zinco-nickelatura
Elettrolita per stagnatura acida lucida. Per stagnature tecniche e stagnature decorative. Genera depositi resistenti alle impronte e alle ossidazioni.
Elettrolita di rame alcalino, esente da cianuro. Elettrodeposizioni semilucide compatte e aderenti con eccellente potere diffondente e coprente.
Processo di cromatura dura con un rendimento di corrente particolarmente elevato. Disponibile con differenti sistemi catalitici.
| Articolo | Descrizione |
|---|---|
| SAPHIR 25 | Elettrolita di cromo duro, rapida deposizione, esente da fluoruro, richiede l’impiego di anodi in titanio platinato |
| SAPHIR 40 | Elettrolita di cromo duro, rapida deposizione, esente da fluoruri. |
Bagni di cianuro di zinco. Elevato grado di lucentezza sull'intera gamma di densità di corrente. Utlizzabile per processi a Telaio o rotobarile.